光電技術研究所薄膜光學技術研究室在低缺陷密度紅外薄膜制備工藝方面取得進展：通過優(yōu)化紅外薄膜的鍍膜工藝，硫化鋅/氟化鐿多層膜的缺陷密度顯著降低。
紅外薄膜的缺陷是影響紅外薄膜光學性能和其穩(wěn)定性的重要因素，越來越受到國內外相關研究人員的關注。光電所研究團隊通過優(yōu)化沉積沉積速率、沉積溫度和沉積方式，顯著降低了多層紅外薄膜的缺陷：多層紅外薄膜的缺陷密度降低了一個數(shù)量級。采用低缺陷密度工藝參數(shù)制備的164nm高反射膜，反射率大于99.9%，吸收小于100ppm。
該研究成果發(fā)表于Surface & Coatings Technology, 320(2017)。
Fig.1 Reflectance spectra of 1064nm high-reflectance coating
圖1 1064nm高反射膜的反射率光譜
Fig.2 Absorption of 1064nm high-reflectance coating
圖2 1064nm高反射膜的吸收